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曝光后烤膠臺/潔凈烘箱PEB烘烤的目的

   光刻膠在曝光完成后，光刻膠需要經過再一次烘烤，因為這次烘烤在曝光后，所以稱為“曝光后烘烤”，簡稱后烘或堅膜，英文為Post Exposure Bake（PEB）。

  曝光后烤膠臺/潔凈烘箱PEB烘烤的目的--通過加熱的方式，使得光化學反應能夠充分完成。

  對于酚醛樹脂體系的光刻膠，PEB可以擴散感光劑以消除駐波效應。并且，PEB溫度不同時，感光劑的擴散距離不同，消除駐波的效果也不一樣。PEB在110度時，消除駐波效應最明顯。

  對于化學放大型光刻膠，在后烘過程中，光酸起到催化光刻膠樹脂的去保護反應(Deprotection Reaction)，又稱為脫保護反應。

   大量實驗表明，烤膠臺烘烤溫度的起伏是影響線寬均勻性的主要因素之一。在設置后烘工藝時， 對熱盤溫度均勻性的要求一般比軟烘的要求更高。

烤膠臺/潔凈烘箱PEB烘烤性能

智能型烤膠機

加熱尺寸：220*220mm（可定制）,適用于?200毫米（8英寸）圓片或200x 200毫米方片以下尺寸產品；

溫度范圍：RT～300°C 

溫度精度：0.1°C；

溫度均勻性：≤±0.5℃；

電動頂針調節高度: 0～30mm；

加熱臺表面：耐腐蝕硬質陽極氧化鋁制成；

控制器單元：7寸全彩觸摸屏，高級PLC控制，實現在指定時間內自動升降，可以定時取片；

潔凈烘箱

無塵等級：Class100;     

溫度范圍：RT～300/450℃；
溫度均勻度：200℃±3℃;    

溫度波動度：±0.5℃（空載）              

工作尺寸（mm）：

450×450×450

500×500×500

600×700×800（可定制）        

可擴展功能：

氧濃度檢測，無塵無氧烘箱

智能聯網功能，MES等工業自動化軟件

掃碼槍，掃碼溯源，一鍵讀取

自動門控，上位機程控，機械手搬運產品