就
是
對
待
工
作
的
態(tài)
度
，
個產(chǎn)品，
做到極致認(rèn)真
致
每一組數(shù)據(jù)
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智能型HMDS真空系統(tǒng)（JS-HMDS90-AI）
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潔凈烘箱，百級無塵烘箱
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氮氣烘箱，精密充氮烘箱
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LCP熱處理烘箱，LCP纖維氮氣烘箱
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熱風(fēng)循環(huán)真空烘箱，高溫?zé)犸L(fēng)真空烤箱
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HMDS預(yù)處理系統(tǒng)(JS-HMDS90 )
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智能型無塵無氧烘箱（PI烤箱）
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真空無氧固化爐，高溫?zé)o氧烘箱
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精密烤膠臺，高精度烘膠機(jī)
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超低溫試驗箱，零下-120度高低溫箱
新 聞 動 態(tài)
NEWS
光刻膠處理中的四大烘烤工藝——基板預(yù)烘烤、軟烘、曝光后烘烤與硬烘
涂膠前的烘烤
構(gòu)建牢靠的膠基結(jié)合
基板表面處理是光刻膠附著的首要環(huán)節(jié)。當(dāng)溫度升至100°C時，基材表面吸附的水分子（H?O）開始脫附，這一過程能有效消除“水膜屏障”，避免光刻膠與基板間因水分殘留導(dǎo)致的結(jié)合力下降。硅、玻璃、石英等氧化表面的羥基（-OH）會導(dǎo)致親水性表面，降低光刻膠附著力，而溫度進(jìn)一步升至150°C以上時，羥基（-OH）會發(fā)生熱裂解反應(yīng)，從而進(jìn)一步提升光刻膠與基板的結(jié)合力。
① 低溫段推薦120°C烘烤3-5分鐘，高溫段需避免過久導(dǎo)致基板氧化加劇。
②使用上海雋思HMDS烤箱HMDS增粘劑預(yù)處理可達(dá)到類似高溫烘烤的效果。
③ 涂膠應(yīng)在基板冷卻后立即進(jìn)行以防止水分再吸附，但需確保基板恢復(fù)室溫以保證膠膜均勻性。
HMDS烤箱預(yù)烘烤工藝
HMDS烤箱將HMDS涂到半導(dǎo)體制造中硅片、砷化鎵、鈮酸鋰、玻璃、藍(lán)寶石、碳化硅/硫化鋅/磷化銦/生物晶圓等材料表面后，經(jīng)烘箱加溫氣相沉積在襯底表面。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)樗涫杷珊芎玫嘏c光刻膠結(jié)合，起著偶聯(lián)劑的作用。
可以很好地改善光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕等煩惱。
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